物體是由原子和分子組成的，原子由原子核(帶正電荷)和電子(帶負電荷)組成，電荷在物體內(nèi)向一個方向移動就形成電流。

　　雖然物體內(nèi)部存在著大量電荷，但并不是所有電荷都能自由移動。金屬原子只有一部分外層電子受原子核的吸引力比較弱，而成為可以在金屬中自有運動的自由電子。金屬中的電流就是這些自由電子的定向移動形成的。

　　要在導(dǎo)體內(nèi)產(chǎn)生電流，只存在自由電子還不行，還得有一定的外界條件。要使導(dǎo)體中有持續(xù)電流流過，導(dǎo)體兩端必須保持一定的電位差(一般由電源來提供保證)，電位差通常稱為電壓。

　　他們的物理關(guān)系是：自由電子的存在是形成電流的內(nèi)因，電壓是形成電流的外因。

　　超聲波清洗機的電流與電壓通過獨特設(shè)計，才能得到超聲波，然后對物體進行清洗。超聲波清洗機也就是，頻率低，空化越容易產(chǎn)生，而且在低頻情況下液體受到的壓縮和稀疏作用有更長的時間間隔，使氣泡在崩潰前能生長到較大的尺寸，增高空化強度，有利于清洗作用。

　　所以低頻超聲清洗適用于大部件表面或者污物和清洗件表面結(jié)合度高的場合。但易腐蝕清洗件表面，不適宜清洗表面光潔度高的部件，而且空化噪音大。40KHZ左右的頻率，在相同聲強下，產(chǎn)生的空化泡數(shù)量比頻率為20KHZ時多，穿透力較強，宜清洗表面形狀復(fù)雜或有盲孔的工件，空化噪音較小，但空化強度較低，適合清洗污物與被清洗件表面結(jié)合力較弱的場合。高頻超聲清洗適用于計算機，微電子元件的精細清洗;兆赫超聲清洗適用于集成電路芯片、硅片及波薄膜的清洗，能去除微米、亞微米級的污物而對清洗件沒有任何損傷。

　　因此從清洗效果及經(jīng)濟性考慮，頻率一般選擇在20—130KHZ范圍，當(dāng)然正確選擇頻率至關(guān)重要，而具體合適的工作頻率的選取需要做一定的實驗取得。