超聲波清洗器空化閾值和超聲波的頻率有密切關(guān)系。頻率越高，空化閾越高，換句話說，頻率越高，在液體中要產(chǎn)生空化所需要的聲強(qiáng)或聲功率也越大；頻率低，空化容易產(chǎn)生，同時(shí)在低頻情況下，液體受到的壓縮和稀疏作用有更長(zhǎng)的時(shí)間間隔。

使氣泡在崩潰前能生長(zhǎng)到較大的尺寸，增高空化強(qiáng)度，有利于清洗作用。目前超聲波清洗器的工作頻率根據(jù)清洗對(duì)象，大致分為三個(gè)頻段；低頻超聲清洗(20一50KHz)，高頻超聲清洗(50—200KHz)和兆赫超聲清洗(700KHz一1MHz以上)。低頻超聲波清洗器適用于大部件表面或者污物和清洗件表面結(jié)合強(qiáng)度高的場(chǎng)合。頻率的低端，空化強(qiáng)度高。

易腐蝕清洗件表面，不適宜清洗表面光潔度高的部件，而且空化噪聲大。超聲波清洗器40KHz左右的頻率，在相同聲強(qiáng)下，產(chǎn)生的空化泡數(shù)量比頻率為20KHz時(shí)多，穿透力較強(qiáng)，宜清洗表面形狀復(fù)雜或有盲孔的工件，空化噪聲較小。但空化強(qiáng)度較低，適合清洗污物與被清洗件表面結(jié)合力較弱的場(chǎng)合，高頻超聲清洗適用于計(jì)算機(jī)。

微電子元件的精細(xì)清洗，如磁盤、驅(qū)動(dòng)器，讀寫頭，液晶玻璃及平面顯示器，微組件和拋光金屬件等的清洗。這些清洗對(duì)象要求在清洗過程中不能受到空化腐蝕。要能洗掉微米級(jí)的污物。兆赫超聲波清洗器適用于集成電路芯片、硅片及簿膜等的清洗。能去除微米、亞微米級(jí)的污物而對(duì)清洗件沒有任何損傷。

因?yàn)榇藭r(shí)不產(chǎn)生空化。超聲波清洗器清洗機(jī)理主要是聲壓梯度。粒子速度和聲流的作用。特點(diǎn)是清洗方向性強(qiáng)，被清洗件一般置于與聲束平行的方向。